Wednesday 29 October 2025
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ettoday - 4 days ago

減少晶片曝光缺陷! 陸開發光阻劑有新突破


大陸在晶片製造領域有最新突破,北京大學化學與分子工程學院團隊通過冷凍電子斷層掃描技術,首次在原位狀態下解析了光阻劑分子在液相環境中的微觀三維結構、界面分布與纏結行為,指導開發出可顯著減少曝光缺陷的產業化方案,相關論文近日刊發於《自然·通訊》。 《詳全文...》


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